數(shù)百年來，大家一直用顯微鏡觀查外部經(jīng)濟(jì)和探尋雙眼看不見的全球，與十九世紀(jì)的光學(xué)顯微鏡對比，如今大家應(yīng)用的一般顯微鏡作用多、自動化技術(shù)水平高、變大倍率高。顯微鏡早已做到了屏幕分辨率的極限，針對應(yīng)用能見光做為燈源的光學(xué)顯微鏡，它的屏幕分辨率只有做到微波的半光波長上下，它的屏幕分辨率極限是0.2^，一切低于0.2pLm的構(gòu)造都無法鑒別出去，使人們的探尋遭受了限定。因而，提升光學(xué)顯微鏡屏幕分辨率的方式之一是想方設(shè)法減少可見光波長。

進(jìn)到二十世紀(jì)，光電子技術(shù)獲得了長久的發(fā)展趨勢，選用離子束來替代僅是非常好的想法。依據(jù)德布羅意的物質(zhì)波基礎(chǔ)理論，健身運(yùn)動的電子器件具備不確定性，并且速率越快，它的“光波長”越少。假如可以把電子器件的速率加到充足快，而且聚集它，有可能用于變大物件。當(dāng)電子器件的速率加到很高時，透射電鏡的屏幕分辨率能夠 做到納米(10-8m)，使許多在能見光下看不到的物件在透射電鏡下呈現(xiàn)了原型。因而，透射電鏡是二十世紀(jì)*關(guān)鍵的創(chuàng)造發(fā)明之一兇。

1947年法國技術(shù)工程師MaxKnoU和ErnstRuska生產(chǎn)制造出了全世界*臺散射透射電鏡，散射電子顯微術(shù)是運(yùn)用透過塑料薄膜試件的離子束開展顯像或微區(qū)剖析的一種電子顯微術(shù)?？傻玫?高寬比部分化的信息內(nèi)容，是剖析分子結(jié)構(gòu)、結(jié)晶不一致性、微區(qū)成份的綜合性技術(shù)性。

1952年美國技術(shù)工程師生產(chǎn)制造岀了*臺掃描儀透射電鏡(SEM)O掃描儀電子顯微術(shù)離子束以光纖傳感器狀方法直射試件表層，剖析出射電子器件和試件表層化學(xué)物質(zhì)相互影響造成的各種各樣信息內(nèi)容來科學(xué)研究試件表層微區(qū)外貌、成份和晶體學(xué)特性的一種電子顯微技術(shù)性。

1983年IBM企業(yè)蘇黎世試驗室的倆位生物學(xué)家創(chuàng)造發(fā)明了說白了的掃描儀隧道施工光學(xué)顯微鏡。這類光學(xué)顯微鏡比透射電鏡更超前的，它徹底失去傳統(tǒng)式光學(xué)顯微鏡的定義。隧道施工掃描儀顯微鏡術(shù)是運(yùn)用量子科技隧道效應(yīng)的表層科學(xué)研究技術(shù)性。能即時、原點(diǎn)觀查試品*表層的局域網(wǎng)構(gòu)造信息內(nèi)容，能做到彈性散射的高像素⑴。它沒有攝像鏡頭，應(yīng)用一根探頭，探頭和物件中間再加工作電壓。假如探頭間距物件表層靠近，大概在納米的間距上，隧道效應(yīng)*會起功效。電子器件會越過物件與探頭中間的間隙，產(chǎn)生一股很弱的電流量。假如探頭與物件的間距產(chǎn)生變化，這股電流量也會相對更改。那樣，根據(jù)精確測量電流量大家*能了解物件表層的樣子，屏幕分辨率能夠 做到單獨(dú)分子的級別。透射電鏡的屏幕分辨率已做到0.l~0.3nm,即與金屬材料點(diǎn)陣式中分子間隔非常。

幾十年來，伴隨著新式透射電鏡的面世，產(chǎn)生了散射透射電鏡(TEM)、掃描儀透射電鏡(SEM)、原子力光學(xué)顯微鏡(AFM)、掃描儀隧道施工光學(xué)顯微鏡(STM)、場正離子光學(xué)顯微鏡(FTM)、掃描儀激光器聲成像顯微鏡(SPAM)等透射電鏡大家族。并在EBSD、探頭、激光器探頭、俄歇能譜儀等表層剖析技術(shù)性的相互配合下，使金相檢驗技術(shù)性發(fā)展趨勢到一個新的環(huán)節(jié)。電子器件金相分析技術(shù)性可對金屬復(fù)合材料的斷裂面外貌、組織架構(gòu)及其微區(qū)成分等開展綜合分析與測量,從而對金屬復(fù)合材料以及產(chǎn)品工件的質(zhì)量管理、失靈說明、新型材料與加工工藝的研發(fā)等充分發(fā)揮著十分關(guān)鍵的功效。